銅鋁旋轉靶采用真空熔融技術制得，以高純的鋁和銅為原料，經高真空熔煉得到銅基銅鋁合金，然后采用高溫高壓致密化處理，得到高純、致密、純凈、成分均勻的銅鋁靶材，尺寸及比例根據客戶要求定制。

純度：99.9-99.999%；常用比例：95:5wt%、90:10wt%、85:15wt%等。
應用領域：半導體、顯示器等領域。

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